HFJC600-II型磁控溅射真空镀膜机

（应用于各种电学膜、金属膜和SiO₂膜等的设备）

真空室：卧式顶盖升降。内腔Φ600×700mm，,304不锈钢

真空系统：直联泵+F250分子泵

极限真空：3.0E^-4pa

恢复真空：大气至4.0E^-3pa≤15min

烘烤：卤钨灯，最高温度350℃，可调可控

靶源：4个Φ80靶，DC或RF（13.56MHz）电源，1.5KW可调

充气系统：2路流量控制

工件机构：公自转机构，3个Φ70样品盘；公转速度1-30rpm，自转1-120rpm，可控可调

操作系统：可自动和手动操作，工艺参数设置，完善的水电检测报警功能